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勻膠機是在速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。

概述

該設備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種作方式。

送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速100-9900轉(zhuǎn)/分(±10轉(zhuǎn)/分)，起動加速度可調(diào)。每道程序的持續(xù)時間，轉(zhuǎn)速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預烘時間等藝參數(shù)均可通過編程控制。

勻膠機有個或多個滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了多點滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度般在500-1000nm，同晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

烘烤位，有隧道式遠紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按定的升溫速率行烘干。烘烤過程在密封的爐子中行，通過抽真空排除揮發(fā)出來的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后，將晶片送入收片盒內(nèi)。

主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復性是決定膠膜厚度均勻性和致性的關鍵，起動加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開并使膠均勻的決定因素。

選購巧

從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節(jié)

旋轉(zhuǎn)速度

轉(zhuǎn)速的快慢和控制度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大，對于要求 涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數(shù)據(jù)的。

材質(zhì)的選擇

對于半導體化行業(yè)的應用來說，材質(zhì)的選擇尤為關鍵，大分勻膠機采用的是不銹鋼或者普通塑料材質(zhì)，因為這種材質(zhì)的成本很低，不銹鋼的對于各類化膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對于較溫度和壓力下易產(chǎn)生變形。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話，將會導致旋涂時，時時低的顛簸狀態(tài)。

旋轉(zhuǎn)涂覆

旋轉(zhuǎn)涂覆 所使用的設備是勻膠機。勻膠機有很多種稱謂，又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉(zhuǎn)涂膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜機、旋轉(zhuǎn)涂層機、旋轉(zhuǎn)涂布機、旋轉(zhuǎn)薄膜機、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機，總的來說，他們原理都是樣的，即在速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關。

從其原理來說，勻膠機有以下兩個特點。

(1)旋轉(zhuǎn)速度

轉(zhuǎn)速的快慢和控制度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大。

(2)真空吸附系統(tǒng)

真空泵般采用無油泵，即通常說的干泵，因為何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況，還會讓滴的膠液不慎入真空管道系統(tǒng)成 堵塞。有的勻膠機通過聯(lián)動機制，當真空吸附力不夠時不會開始旋轉(zhuǎn)。這樣可有效避免滴的膠液不慎入真空管道系統(tǒng)。